Spin kaplama yöntemi son yıllarda katı yüzeyler üzerine polimer kaplamada ve özelliklede mikro elektroniklerin üretiminde photoresist depolamada en çok kullanılan tekniktir. Dakikada binlerce dönüş yapan bir alt tabaka( alttaş) üzerine kaplama yapılmak istenen maddenin çözeltisi dökülür. Merkezcil kuvvetin etkisi altında çözelti tüm alttaş üzerine düzgün şekilde yayılır. Dönme esnasında çözücünün uzaklaşmasıyla, yüzey kurur. Eğer ek olarak artan bir ısı verilirse ince film alttaş üzerinde oluşturulmuş olur ancak filmin oluşması için her durumda ısı vermek gerekli değildir. Ön tarafta görülmekte olan kontrol paneli yardımıyla dönüş hızı veya süresini ayarlamak için komutlar verilebilmektedir. Sistem
bilgisayar destekli olduğu için aynı işlemler bilgisayardan da yapılabilmektedir. Zeliş Girgin